磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta角分辨XPS

• 作者: 于广华 朱逢吾 王安荣 马纪东
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 角分辨X射线光电子能谱 NiO/NiFe界面 交换耦合 界面反应
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 页码范围: 191-193
• 页数: 3页
• 分类号: TM271
• 字数: 2596字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2002.02.023

摘要

磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS)研究了反铁磁(NiO)/铁磁(NiFe)界面.结果表明,在NiO/NiFe界面发生了化学反应: NiO+Fe = Ni+FeO和3NiO+2Fe =3Ni+Fe2O3,此反应深度约为1～1.5 nm.反应产物将影响NiO对NiFe的交换耦合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料物理系	88	372	9.0	14.0
2	朱逢吾	北京科技大学材料物理系	54	229	8.0	12.0
3	马纪东	北京科技大学材料物理系	9	52	4.0	7.0
4	王安荣	北京科技大学材料物理系	2	3	1.0	1.0