Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜的X射线光电子能谱的研究

• 作者: 于广华 朱逢吾 李明华
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 自旋阀多层膜 交换耦合场 层间偏聚 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 42-45
• 页数: 4页
• 分类号: O434
• 字数: 2868字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2003.05.010

摘要

实验表明Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜的交换耦合场(Hex)要大于Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中的Hex.为了寻找其原因, 用X射线光电子能谱(XPS)研究了Ta(12nm)/NiFe(7nm), Ta(12nm)/NiFe(7nm)/Cu(4nm)和Ta(12nm)/NiFe(7nm)/Cu(3nm)/NiFe(5nm)3种样品, 研究结果表明,前两种样品表面无任何来自下层的元素偏聚;但在第3种样品最上层的NiFe表面上, 探测到从下层偏聚上来的Cu原子.我们认为:Cu在NiFe/FeMn层间的存在是Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜的Hex低于Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜Hex的一个重要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料物理系	88	372	9.0	14.0
2	李明华	北京科技大学材料物理系	21	50	4.0	5.0
3	朱逢吾	北京科技大学材料物理系	54	229	8.0	12.0