离焦激光直写光刻工艺研究

• 作者: 卢振武 张殿文 李凤友 裴苏 谢永军 赵晶丽
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光直写光刻 离焦写入 四轴激光直写系统
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 850-854
• 页数: 5页
• 分类号: TN247|TN305.7
• 字数: 3396字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2002.09.021

摘要

采用理论计算和光线追迹分析了激光直写光刻中离焦对写入焦斑光场分布的影响;使用四轴激光直写设备开展了离焦激光直写光刻工艺实验,实验和理论计算及光线追迹的结果吻合得很好.利用离焦激光直写光刻方法制作了光栅和分划版,测得实验结果达到工艺要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢振武	中国科学院长春光学精密机械和物理研究所应用光学国家重点实验室	93	1154	21.0	28.0
2	张殿文	中国科学院长春光学精密机械和物理研究所应用光学国家重点实验室	3	77	3.0	3.0
3	谢永军	中国科学院长春光学精密机械和物理研究所应用光学国家重点实验室	20	124	6.0	10.0
4	李凤友	中国科学院长春光学精密机械和物理研究所应用光学国家重点实验室	7	136	5.0	7.0
5	裴苏	中国科学院长春光学精密机械和物理研究所应用光学国家重点实验室	1	30	1.0	1.0