基片及基片温度对Fe4N薄膜的形成及其特性的影响

• 作者: 吴雪梅 姚伟国 王文宝 诸葛兰剑
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 双离子束溅射 基片 γ1-Fe4N薄膜 晶粒取向
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 477-478，481
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 2855字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2002.05.007

摘要

以双离子束溅射法在(111)硅片和玻璃上分别制得了单一γ1-Fe4N薄膜,研究了基片及基片温度对薄膜的结构和磁性能的影响.结果表明,以(111)硅片为基片,可制得无晶粒择优取向的单一γ1-Fe4N相;而以玻璃为基片,在基片温度为160℃时,则可制得具有(100)面晶粒取向的单一γ1-Fe4N相薄膜;与无晶粒择优取向的γ1-Fe4N相比较,具有(100)面晶粒取向的γ1-Fe4N相的矫顽力较低,易达到磁饱和,但二者的饱和磁化强度基本一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王文宝	苏州大学分析测试中心	17	78	5.0	8.0
2	吴雪梅	苏州大学物理系	72	331	9.0	13.0
3	诸葛兰剑	苏州大学分析测试中心	59	199	8.0	11.0
4	姚伟国	苏州大学物理系	21	66	4.0	6.0