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摘要:
针对产品内部复杂精密元件射线成像检测中有效、快捷的特征提取问题, 在分析 MCD(Maximum Close Distance) 相关跟踪算法的优缺点的基础上, 提出了一种基于 MCD 相关跟踪的投影特征快速提取方法, 它保留了 MCD 算法的抗干扰能力、匹配精度高的优点, 同时将大量的信息压缩为少量的投影特征, 减小了计算量, 提高了检测速度.
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文献信息
篇名 一种基于 MCD 相关跟踪的投影特征快速提取方法
来源期刊 测试技术学报 学科 工学
关键词 相关跟踪 投影特征 特征提取 MCD
年,卷(期) 2002,(4) 所属期刊栏目 图像处理技术
研究方向 页码范围 264-266
页数 3页 分类号 TP274+.51
字数 1663字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-7449.2002.04.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 韩焱 华北工学院电子信息工程系 90 857 15.0 25.0
2 桂志国 华北工学院电子信息工程系 12 137 5.0 11.0
3 宁静涛 华北工学院电子信息工程系 1 5 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
相关跟踪
投影特征
特征提取
MCD
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
测试技术学报
双月刊
1671-7449
14-1301/TP
大16开
太原13号信箱
22-14
1986
chi
出版文献量(篇)
2837
总下载数(次)
7
总被引数(次)
13975
论文1v1指导