非晶氮化硼薄膜的场致电子发射研究

• 作者: 姚宁 张兰 张兵临 胡欢陵 马会中
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮化硼薄膜 脉冲激光沉积 场致电子发射
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1110-1112
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1338字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2002.12.014

摘要

利用脉冲激光沉积(PLD)技术在镀钛的陶瓷衬底上制备出了非晶态氮化硼薄膜,借助于X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及Raman光谱分析了该薄膜的结构,并研究了薄膜场致电子发射特性,阈值电场为4.6 V/μm,当电场为9 V/μm时,电流密度为50 μA/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学物理工程学院	122	692	12.0	18.0
2	张兵临	郑州大学物理工程学院	95	608	12.0	18.0
3	张兰	郑州大学工程力学系	68	325	8.0	14.0
5	胡欢陵	中国科学院安徽光学精密机械研究所	62	860	16.0	27.0
6	马会中	郑州大学工程力学系	28	78	6.0	7.0