制版、光刻、腐蚀与掩模工艺

• 来源期刊: 电子科技文摘
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模 监测方式 刻蚀技术 Peterson 光刻胶 光致抗蚀剂 时间控制 随机存取存储器 扫描方式 线宽
• 年，卷（期）: dzkjwz_2002,（12）
• 页码范围: 24-24
• 页数: 1页
• 分类号: TN305.7

摘要

【正】 Y2002-63234-67 0224675光刻缺陷综合监测方式=Comprehensive cost-effectivephoto defect monitoring strategy[会,英]/Peterson,I.& Stoller,M.//2001 IEEE International Symposium onSemiconductor Manufacturing.—67～70(E)Y2002-63234-75 0224676神经动态编程优化腐蚀时间控制设计=Optimal etchtime control design using neuro-dynamic programming[会,英]/Yang,L.& Si,J.//2001 IEEE InternationalSymposium on Semiconductor Manufacturing.—75～78