多孔硅研究的发展

• 作者: 李清山 王晓静
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 制备方法 发光机制 应用
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 421-427
• 页数: 7页
• 分类号: O472
• 字数: 6799字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2003.06.005

摘要

多年来,人们对多孔硅的制备方法、微结构特征及其化学成分、发光特性以及发光机制等方面做了深入的研究和探讨,文章对这几个方面的研究工作做了介绍,并对目前的研究状况和应用研究中存在的问题进行了分析.制备出均匀性好、发光效率高、性质稳定、机械强度较高的多孔硅是促进其实用化进程的基本途径.人们对多孔硅进行大量研究的目的主要在于获得硅发光集成装置,另外多孔硅的应用研究也体现在光电子器件、光学器件和传感器件3个方面.多孔硅在微电子学、晶片机械加工、生物工艺学等领域也具有潜在的应用价值.