氟化物气相沉积制备钨涂层

• 作者: 周慧 李争显 杜继红 黄春良
• 来源期刊: 硬质合金
• 学科: 工学
• 关键词: 氟化物 气相沉积 钨
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 165-167
• 页数: 3页
• 分类号: TF8
• 字数: 1070字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7292.2003.03.009

摘要

采用氟化物氢还原的方法制备钨涂层.结果显示涂层的厚度可达150微米以上,密度为理论密度的99%,纯度可达99.9%.采用扫描电境分析沉积层组织形貌,结果显示气相沉积钨是沿沉积方向上生成柱状晶体结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李争显		169	1281	19.0	26.0
2	杜继红		102	955	17.0	24.0
3	周慧		13	178	8.0	13.0
4	黄春良		31	234	10.0	13.0