亚微米/深亚微米的栅氧清洗技术

• 作者: 何磊 徐政 郑若成
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 清洗 兆声 颗粒 ZETA电势
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 设计与制造
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.99
• 字数: 3062字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2003.03.009

摘要

栅氧前清洗是栅氧工艺的重要部分,本文介绍二种适用于亚微米/深亚微米的清洗工艺:采用稀释化学试剂和兆声波清洗的VCS清洗工艺和IMEC清洗工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑若成		20	44	4.0	5.0
2	徐政		14	17	3.0	3.0
3	何磊		3	7	2.0	2.0