常压下低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的制备

• 作者: 吴广明 姚兰芳 沈军 王珏
• 来源期刊: 同济大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 低折射率薄膜 溶胶-凝胶 表面修饰 常压
• 年，卷（期）: 2003,（9）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 1123-1126
• 页数: 4页
• 分类号: O469
• 字数: 3356字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-374X.2003.09.024

摘要

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过酸/碱二步法控制实验条件,结合低表面张力溶剂替换以及甲基非活性基团置换修饰、超声振荡等,在常压下成功地制备出折射率在1.11～1.27范围内的二氧化硅纳米多孔光学薄膜.制备过程中充分注意到稀释、老化、有机修饰表面、热处理和提拉条件对薄膜都有很大的影响,利用这些因素可以对该纳米薄膜的孔洞率、折射率进行控制,尤其是能制备低折射率薄膜,从而为该薄膜的应用开发奠定基础.采用椭偏仪测量薄膜的厚度和折射率,薄膜中高的孔洞率、低的折射率归结于最终干燥阶段中的弹性回跳.扫描电镜(SEM)观察发现修饰薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构.耐磨实验表明所制备的薄膜有良好的机械性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
2	王珏	同济大学波耳固体物理研究所	79	1255	22.0	32.0
3	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
4	姚兰芳	同济大学波耳固体物理研究所	38	259	11.0	14.0