紫外厚胶光刻技术在3-D MEMS电感中的应用

• 作者: 刘理天 李雯 薛昕 谭智敏
• 来源期刊: 仪器仪表学报
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外厚胶光刻 3-D MEMS 电 感
• 年，卷（期）: 2003,（z2）
• 所属期刊栏目: 测量装置
• 页码范围: 247-248
• 页数: 2页
• 分类号: TN4
• 字数: 1042字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3087.2003.z2.112

摘要

研究了紫外厚胶光刻技术在三维微机械电感中的应用.实验用负性光刻胶SU-8构造了三维微机械电感的胶结构模型,并对光刻胶的工艺条件进行了研究.结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,形成的胶结构侧墙较陡直,能够实现较大的深宽比,为结构复杂的三维微机械电感的制作提供了保证.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘理天	清华大学微电子学研究所	230	1519	19.0	23.0
2	谭智敏	清华大学微电子学研究所	18	114	7.0	9.0
3	李雯	清华大学微电子学研究所	6	35	3.0	5.0
4	薛昕	清华大学微电子学研究所	2	15	2.0	2.0