CVD金刚石膜的结构分析

• 作者: 刘存业 刘畅
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 化学气相沉积 x射线掠入射 正电子湮没谱
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 1479-1483
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3597字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.06.032

摘要

利用x射线广角衍射和低角掠入射散射谱、正电子湮没谱、定性分析软件和Positronfit程序,研究了生长在Si(100)基底上的金刚石膜微结构.研究发现,在样品邻近基底区域为纳米多晶结构,具有弱的[111]织构;在邻近表面区域为微米多晶结构,具有强的[220]织构.金刚石膜样品有空位、空位团和空洞3种缺陷,其中主要缺陷是大约10个空位形成的空位团.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘存业	西南师范大学物理学系	11	49	4.0	6.0