Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究

• 作者: 崔明启 朱杰 王占山 赵屹东 郑雷
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 周期多层膜 退火 小角衍射 同步辐射 软X光 偏振
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 新一代同步辐射技术及应用
• 页码范围: 489-493
• 页数: 5页
• 分类号: O43
• 字数: 3411字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2004.07.003

摘要

通过对Mo/Si周期多层膜添加碳(C)层、进行高温退火处理,研究了Mo/Si/C多层膜进行热处理后在同步辐照条件下对薄膜相关物理特性的影响.发现Mo/Si周期性多层膜增加C层后不影响薄膜的反射特性,退火前45°入射角92 eV处反射率高达42%;热稳定性也有所提高,在600℃高温退火后仍能保持6.8%(97eV处)的反射率.同时,由于非晶C在高温条件下的扩散导致薄膜结构发生变化,观测到薄膜的小角衍射曲线中出现并临的双衍射峰结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王占山	同济大学精密光学工程技术研究所物理系	92	640	14.0	19.0
2	崔明启	中国科学院高能物理研究所同步辐射室	33	149	7.0	11.0
3	朱杰	中国科学院高能物理研究所同步辐射室	25	240	7.0	15.0
4	郑雷	中国科学院高能物理研究所同步辐射室	22	58	4.0	6.0
5	赵屹东	中国科学院高能物理研究所同步辐射室	39	144	7.0	9.0