Mo/Si软X射线多层膜的界面粗糙度研究

• 作者: 周洪军 易葵 秦俊岭 范正修 邵建达 霍同林
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: Mo/Si多层膜 软X射线 界面粗糙度 反射率
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 763-766
• 页数: 4页
• 分类号: O43
• 字数: 2175字
• 语种: 中文

摘要

用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列, 利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度.以不同周期数的Mo/Si多层膜的新鲜表面近似等同于同一多层膜的内界面,通过原子力显微镜研究了多层膜界面粗糙度随膜层数的变化规律.并在国家同步辐射实验室测量了各多层膜的软X射线反射率.研究表明:随着膜层数的增加,Mo膜层和Si膜层的界面粗糙度先减小后增加然后再减小,多层膜的峰值反射率先增加后减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	霍同林	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	33	178	9.0	12.0
5	周洪军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	41	221	10.0	13.0