均匀软X射线多层膜制备方法研究

• 作者: 曹健林 林强 裴舒 金春水 马月英
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 软X射线 多层膜 磁控溅射 均匀性
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 444-446
• 页数: 3页
• 分类号: O434.14
• 字数: 2367字
• 语种: 中文

摘要

介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜,其中心波长为13.5nm,膜厚空间非均匀性优于1%,较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林强	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	35	196	9.0	12.0
2	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	56	202	9.0	11.0
3	曹健林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	37	328	10.0	17.0
4	马月英	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	13	75	5.0	8.0
5	裴舒	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	12	112	6.0	10.0