氮气反应溅射制备软X射线Co/Ti多层膜

• 作者: 岳帅鹏 张一志 朱京涛 涂昱淳
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: Co/Ti多层膜 磁控溅射 反应溅射 同步辐射 反射率
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 10-14
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2294字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20152301.0010

摘要

针对“水窗”波段(280～540 eV)对多层膜反射镜的应用需求,在Ti的L吸收边(452.5 eV)附近,优化设计了Co/Ti多层膜的膜系结构.计算了不同界面粗糙度条件下的反射率,结果显示,界面粗糙度对多层膜反射率有较大影响.采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制备了Co/Ti多层膜,通过将氮气引入原有的溅射气体氩气中作为反应气体,明显减小了制备的多层膜的界面粗糙度.利用X射线掠入射反射实验和透射电子显微镜测试了多层膜结构,并在北京同步辐射装置(BSRF)3W1B实验站测量了不同氮气浓度下多层膜的反射率.结果显示,氮气含量为5％的溅射气体制备的多层膜样品反射率最高,即将纯氩气溅射制备得到的反射率9.5％提高到了12.0％.得到的结果表明,将氮气加入反应溅射气体可以有效改善Co/Ti多层膜的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张一志	同济大学物理科学与工程系精密光学工程技术研究所	4	6	2.0	2.0
2	朱京涛	同济大学物理科学与工程系精密光学工程技术研究所	16	94	4.0	9.0
3	涂昱淳	同济大学物理科学与工程系精密光学工程技术研究所	3	10	2.0	3.0
4	岳帅鹏	同济大学物理科学与工程系精密光学工程技术研究所	4	10	2.0	3.0