RF磁控溅射制备TiO2薄膜及其性能讨论

• 作者: 刘应亮 叶勤 赵丽特
• 来源期刊: 暨南大学学报(自然科学与医学版)
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2薄膜 磁控溅射 晶体结构
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 页码范围: 285-288
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2199字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-9965.2004.03.008

摘要

用RF磁控溅射法制备了TiO2薄膜,考察了工作压强、靶与基片距离对薄膜沉积速率、均匀性的影响以及靶材料、基片及退火温度对薄膜晶体结构的影响. 获得的TiO2薄膜在很宽的温度范围(400～900℃)内保持锐钛矿型晶体结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶勤	暨南大学物理系	37	351	11.0	16.0
2	刘应亮	暨南大学化学系	144	1932	24.0	36.0
3	赵丽特	暨南大学物理系	2	65	2.0	2.0