绝缘膜薄膜化达到极限希望寄托于高k材料

• 作者: 堀切近史
• 来源期刊: 电子设计应用
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 日经电子专栏
• 页码范围: 63-73
• 页数: 6页
• 字数: 5162字
• 语种: 中文

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	堀切近史		7	3	1.0	1.0