射频溅射法制备掺铂TiO2薄膜的基本性质

• 作者: 于国萍 何永华 曾志锋 魏正和
• 来源期刊: 武汉大学学报(理学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 二氧化钛 铂 表面形貌 富积
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 2697字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-8836.2004.01.012

摘要

用射频反应溅射法制备了掺铂的TiO2薄膜.用X射线衍射仪(XRD),紫外-可见(UV-vis)光谱仪,电子扫描显微电镜(SEM)和X光电子能谱分析仪(XPS)对薄膜的基本性质进行了表征.研究结果表明:掺铂可以显著促进锐钛矿相的生长; TiO2薄膜在紫外的吸收边发生红移,其光谱响应范围得到了提高;铂氧化物的分解,促使薄膜表面出现了分散分布的微米尺寸岛状突出物,同时导致单质铂在薄膜表面发生富集.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于国萍	武汉大学物理科学与技术学院	24	127	7.0	10.0
2	魏正和	武汉大学物理科学与技术学院	9	73	5.0	8.0
3	何永华	武汉大学物理科学与技术学院	4	20	3.0	4.0
4	曾志锋	武汉大学物理科学与技术学院	1	1	1.0	1.0