AFM分析磁控溅射法制备的TiO2纳米薄膜

• 作者: 刘黎明 林志东
• 来源期刊: 武汉化工学院学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 AFM TiO2薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 52-55
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2833字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2005.01.016

摘要

采用磁控反应溅射法,在室温条件下制备了TiO2纳米薄膜,用原子力扫描显微镜(AFM)分析考察了溅射功率、溅射时真空室压力等工艺参数对薄膜结晶状态、晶粒尺寸的影响.实验结果表明,在室温下,只有溅射功率大于100W以上时,才能形成粒子结晶完全的纳米薄膜,随着溅射功率的增加,真空室溅射气压的降低,薄膜中TiO2粒子尺寸显著增大;随着溅射时间的延长,薄膜厚度增加.并根据溅射薄膜的成膜机理,讨论了实验工艺参数对薄膜微结构的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林志东	武汉化工学院材料科学与工程学院	7	86	4.0	7.0
2	刘黎明	武汉化工学院材料科学与工程学院	4	68	3.0	4.0