为电荷耦合器件微透镜设计的两种光致抗蚀剂的光学性质

• 作者: NinaNordman 李浏
• 来源期刊: 云光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光致抗蚀剂 电荷耦合器件 微透镜阵列 透射光谱 经济适用 薄膜 CCD 类似 光学性质 干涉图样
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 35-40
• 页数: 6页
• 分类号: TH74

摘要

为加工电荷耦合器件(CCD)微透镜阵列，专门设计了两种不同的经济适用光致抗蚀剂，比较了用它们规模生产微透镜阵列的可行性。使用一种方法来表征所制备光致抗蚀剂薄膜的特性，薄膜是用与实际透镜阵列加工奈件一样的加工条件制备的。两种光致抗蚀剂的透射光谱有极大差异。类似地，根据透射光谱干涉图样，薄膜表面质量也极不相同。最后，吸收与波长的关系曲线展示由于两种光致抗蚀剂的吸收很不同而光焦度损失的实际论据。