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摘要:
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Ge/Al-SiO2薄膜材料的非线性光学特性
三阶非线性
光学性质
Ge/Al-SiO2薄膜
Z扫描技术
磁控溅射
硅衬底上多层Ge/ZnO纳米晶薄膜的 制备及光学特性
纳米晶
Ge/ZnO多层薄膜
硅衬底
光致发光
射频磁控溅射
快速热退火
Ge1-xCx薄膜的制备及红外特性的研究
Ge1-xCx薄膜
PECVD
红外特性
沉积速率
纳米Ge-SiO2薄膜对1342nm激光的被动调Q
激光技术
Nd∶ YVO4激光器
纳米锗镶嵌二氧化硅薄膜
被动调Q
可饱和吸收体
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 GE高新材料推出光学显示用ILLUMINEXTM薄膜
来源期刊 化工新型材料 学科
关键词
年,卷(期) 2004,(6) 所属期刊栏目 GE先进材料
研究方向 页码范围 60
页数 1页 分类号
字数 1058字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-3536.2004.06.021
五维指标
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引文网络
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2004(0)
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
化工新型材料
月刊
1006-3536
11-2357/TQ
大16开
北京安定门外小关街53号
82-816
1973
chi
出版文献量(篇)
12024
总下载数(次)
55
总被引数(次)
58321
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