钨丝掩模二次倾斜离子注入850 nm室温连续垂直腔面发射激光器

• 作者: 吴荣汉 宋俊峰 崔宏峰 杜云 杜国同 王海嵩 许呈栋 陈弘达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 钨丝掩模 离子注入 垂直腔面发射激光器
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 激光器件
• 页码范围: 129-132
• 页数: 4页
• 分类号: TN248.4
• 字数: 1405字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.02.001

摘要

采用钨丝做掩模,进行倾斜的离子注入优化电流限制区,制作出室温连续的垂直腔面发射激光器件.该器件的最低阈值电流为1.4 mA,串联电阻约207 Ω, 输出光功率超过1 mW.