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摘要:
报道了氦离子注入技术在提高980nm半导体激光器灾变性光学损伤(catastrophic optical damage,COD)阈值上的应用.p-GaAs材料经氦离子注入后可以获得高的电阻率.在距离腔面25μm的区域内进行氦离子注入,由此形成腔面附近的电流非注入区.腔面附近非注入区减少了腔面载流子的注入,因此减少了非辐射复合的发生,提高了激光器的灾变性光学损伤阈值.应用氦离子注入形成腔面非注入区的管芯的平均最大功率达到440.5mW,没有发生COD现象.而应用常规工艺制作的管芯的平均COD阈值功率为407.5mW.同常规工艺相比,应用氦离子注入形成腔面非注入区技术使管芯的最大输出功率提高了8%.
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文献信息
篇名 氦离子注入形成980nm脊型波导激光器腔面非注入区的研究
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 980nm半导体激光器 可靠性 氦离子注入 非注入区 COD
年,卷(期) 2003,(3) 所属期刊栏目 研究快报
研究方向 页码范围 234-237
页数 4页 分类号 TN248.4
字数 442字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.03.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘斌 中国科学院半导体研究所国家光电子器件工程研究中心 230 3876 32.0 56.0
2 马骁宇 中国科学院半导体研究所国家光电子器件工程研究中心 93 616 12.0 21.0
3 张敬明 中国科学院半导体研究所国家光电子器件工程研究中心 8 45 4.0 6.0
4 肖建伟 中国科学院半导体研究所国家光电子器件工程研究中心 13 140 6.0 11.0
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研究主题发展历程
节点文献
980nm半导体激光器
可靠性
氦离子注入
非注入区
COD
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
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