CVD金刚石膜剥离后基底渗铬层的表面形态

• 作者: 罗承萍 邱万奇 黄元盛 黄彩娥
• 来源期刊: 热加工工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石 渗铬层 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2004,（8）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 6-8
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2601字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3814.2004.08.003

摘要

研究了CVD金刚石剥离后基底渗铬层的表面形态以及金刚石的背面形貌.结果发现,以渗铬层为基底在600～900℃之间进行CVD金刚石薄膜沉积后,渗铬层的铬碳化合物层和铬扩散层的厚度都增加了;白亮层的铬浓度比沉积前低;渗铬层硬度梯度因铬的扩散而变得比金刚石沉积前更平缓.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱万奇	华南理工大学机电系	67	339	9.0	15.0
2	罗承萍	华南理工大学机电系	80	1286	19.0	33.0
3	黄元盛	韶关学院机电系	12	44	3.0	6.0
4	黄彩娥	韶关学院机电系	5	15	2.0	3.0