光学光刻技术向纳米制造挺进

• 作者: 刘玄博 葛劢冲
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光学光刻 光学邻近效应校正 下一代光刻 纳米制造 优势与前景
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 光刻技术
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: TN350.7
• 字数: 4561字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.03.008

摘要

概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以及光学光刻技术在大批量生产应用中的优势,并介绍了国外开发极紫外光刻技术的技术指标,预测了光学光刻技术的前景.