偏晶向(111)硅片闪耀光栅的制作

• 作者: 吴一辉 张平 王淑荣 鞠挥
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: (111)硅片 闪耀光栅 体硅技术 湿法腐蚀
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 光学元件
• 页码范围: 755-757
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2363字
• 语种: 中文

摘要

硅光栅的制作可以利用湿法腐蚀体硅工艺.湿法腐蚀利用硅的各向异性,由硅的晶面形成光栅工作凹槽,利用湿法工艺可以制作在不同光谱波段内工作的闪耀光栅.设计了一种利用偏晶向(111)硅片制作闪耀光栅的方法,使用这种方法可以批量制作闪耀角度较小的光栅.利用扫描电子显微镜(SEM)进行了光栅表面形貌测试,试验结果表明,制作的硅光栅样片具有良好光学特性的反射表面和光栅槽形.硅闪耀光栅可以被用来制作微型光谱仪、滤光器等微型仪器或器件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张平	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	180	2022	23.0	35.0
2	王淑荣	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	105	757	15.0	23.0
3	吴一辉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	126	1121	18.0	27.0
4	鞠挥	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	9	256	4.0	9.0