在室温条件下制备高质量纳米结构TiN薄膜研究

• 作者: 刘伟民 吴志国 张伟伟 张玉娟 徐建伟 闫鹏勋
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiN 磁过滤等离子体 纳米薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1386-1390
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2585字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.06.026

摘要

在室温条件下,利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征,利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果表明:TiN薄膜表面光滑,致密,无柱状晶; TiN晶粒的平均尺寸为50nm,薄膜硬度达50 GPa,是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多;XRD衍射试验表明,纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动,TiN晶粒沿(111)择优生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志国	兰州大学等离子体与金属材料研究所	14	187	8.0	13.0
2	徐建伟	兰州大学等离子体与金属材料研究所	7	94	5.0	7.0
3	闫鹏勋	兰州大学等离子体与金属材料研究所	50	460	12.0	18.0
4	张玉娟	兰州大学等离子体与金属材料研究所	16	262	9.0	16.0
6	张伟伟	兰州大学等离子体与金属材料研究所	11	120	6.0	10.0
9	刘伟民	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	1	12	1.0	1.0