光刻对准技术研究进展

• 作者: 曹益平 梁友生 邢廷文
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻技术 对准技术 激光分步对准 掩模
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 专题报导
• 页码范围: 30-34
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5274字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.10.008

摘要

回顾了光刻对准技术的发展功能,对各种对准方法的原理和特点进行了分析和评价,介绍了几种典型主流光刻对准系统结构形式,并对光刻对准技术前景进行了描述与展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹益平	四川大学光电科学技术系	136	874	15.0	24.0
2	邢廷文	中国科学院光电技术研究所	67	501	11.0	17.0
3	梁友生	四川大学光电科学技术系	6	63	4.0	6.0