阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜

• 作者: 吕强 曹传宝 朱鹤孙 李超 黄福林
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 氮化碳膜,电化学沉积 ,硬度 模量
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 36-40
• 页数: 5页
• 分类号: O646|O484
• 字数: 3604字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2004.01.009

摘要

用双氰胺在乙腈中的溶液作沉积液,以镀有铟锡氧化物(ITO)的导电玻璃为衬底,在阴极上制备了高氮含量的CNx薄膜. XPS分析表明,薄膜最高氮碳原子比N/C为1.22(接近C3N4中氮碳计量比),碳和氮主要以C-N、 CN 的形式成键. FTIR支持XPS的分析结果. 拉曼光谱与大多数报道的氮化碳的拉曼光谱不同,在1 098和1 950 cm-1处有2个明显的峰,前者可归属为C-N,后者可归属为 CN . 在50 ℃、1 250 V下得到的样品薄膜的纳米硬度为11.31 GPa,弹性模量为86 GPa. 提出了极化竞争反应机制,简要的解释了CNx薄膜的沉积过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李超	北京理工大学材料科学研究中心	47	380	11.0	17.0
3	曹传宝	北京理工大学材料科学研究中心	65	754	16.0	23.0
4	朱鹤孙	北京理工大学材料科学研究中心	81	1121	19.0	28.0
5	吕强	北京理工大学材料科学研究中心	13	198	9.0	13.0
8	黄福林	北京理工大学材料科学研究中心	3	29	2.0	3.0