MEMS器件中电极制作工艺的研究

• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻胶 剥离工艺 电极
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术
• 页码范围: 53-56
• 页数: 4页
• 分类号: TP271+.4
• 字数: 2462字
• 语种: 中文

摘要

研究了常用的国产BP212正型紫外光刻胶和光学曝光机在利用剥离工艺制备电极中的适用性.结果表明,采用国产的光刻胶和曝光设备完全可以得到实用性的带有凹面的光刻胶剖面和线条均匀性达到微米级的金属线条,简化了lift-off工艺,降低了成本,改进了金属电极的制备方法.