CVD法和丝印法制作的碳纳米管场致发射冷阴极的研究

• 作者: 娄朝刚 张晓兵 朱春晖 穆辉 雷威
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管 丝网印刷 场发射 CVD
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 83-85
• 页数: 3页
• 分类号: TN105.1|TN873+.95
• 字数: 2327字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.z1.021

摘要

本文研究了丝网印刷法和CVD生长法制备的碳纳米管冷阴极的场致发射性能.结果表明,在没有模板的情况下,通过CVD生长的碳纳米管的直径与催化剂颗粒的直径有关,随催化剂颗粒的直径变化而变化,生长方向是随机的,但大电流发射稳定性较差;用丝网印刷方法制作的碳纳米管致发射冷阴极,场发射电流发射较稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷威	东南大学电子工程系	89	538	12.0	18.0
2	张晓兵	东南大学电子工程系	87	746	13.0	24.0
3	娄朝刚	东南大学电子工程系	16	55	5.0	6.0
4	穆辉	东南大学电子工程系	5	35	3.0	5.0
5	朱春晖	东南大学电子工程系	3	24	3.0	3.0