化学气相沉积过程中Si的引入对硬质合金金刚石涂层附着力的影响

• 作者: 刘素田 吕反修 唐伟忠 樊凤玲 黑立富
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 微波等离子体化学气相沉积 八甲基环四硅氧烷 金刚石涂层 附着力 硬质合金
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 开发与应用
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 3795字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2005.01.009

摘要

利用微波等离子体化学气相沉积方法,以H2、CH4和八甲基环四硅氧烷(D4)为原料,在硬质合金基体上沉积了金刚石涂层.与一般只使用H2、CH4为原料时的情况相比,金刚石涂层与硬质合金基体间的附着力有了一定程度的提高.对涂层断面的成分分析表明,Si在涂层与基体间的界面处有富集的倾向,而这将有助于抑制Co对涂层附着力的不利影响,提高金刚石涂层的附着力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
3	刘素田	北京科技大学材料科学与工程学院	5	34	3.0	5.0
4	黑立富	北京科技大学材料科学与工程学院	39	153	6.0	10.0
5	樊凤玲	北京科技大学材料科学与工程学院	2	10	2.0	2.0