测量薄膜微粗糙度的总积分散射仪

• 作者: 侯海虹 张东平 易葵 洪瑞金 范正修 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 测量 表面粗糙度 标量散射 散射仪
• 年，卷（期）: 2005,（9）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1258-1261
• 页数: 4页
• 分类号: TH744.3
• 字数: 2590字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2005.09.022

摘要

介绍了一种检测光学薄膜表面总积分散射(TIS)分布的总积分散射仪.对仪器的基本结构、理论基础、测量原理以及系统性能等进行了阐述,提出了抑制系统噪音和提高测量精度的有效措施.利用该仪器对K9基底上的银(Ag)膜和氧化锆(ZrO2)薄膜进行了测量,并根据标量散射理论得到了表面均方根(RMS)粗糙度.利用光学轮廓仪和原子力显微镜(AFM)分别测量了上述Ag膜和ZrO2薄膜的表面均方根粗糙度,并与总积分散射仪所得的粗糙度进行了比较.结果表明,根据测量的薄膜表面总积分散射计算得到的表面均方根粗糙度与光学轮廓仪及原子力显微镜测量得到的表面均方根粗糙度符合得较好,相差在0.01～0.13 nm范围内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	洪瑞金	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	103	6.0	6.0
5	侯海虹	中国科学院上海光学精密机械研究所	8	113	6.0	8.0
9	张东平	中国科学院上海光学精密机械研究所	8	84	5.0	8.0