低压化学气相沉积法制备ZnSe多晶及其性能研究

• 作者: 周育先 张力强 方珍意 杨曜源 潘伟 王向阳 肖红涛
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: ZnSe 红外 化学气相沉积 CVD 透过
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 306-308
• 页数: 3页
• 分类号: TB32
• 字数: 1408字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.02.033

摘要

以单质Zn,Se和H2为原料,采用低压化学气相沉积方法在温度为630℃～750℃,压力为300Pa～1000 Pa条件下制备出了性能优异的ZnSe多晶材料.性能测试表明,制备出的CVD ZnSe多晶材料在0.55 μm～22 μm,及8μm～14μm波段的平均透过率超过70%(1 mm厚),在3.39μm处的应力双折射为54 nm/cm.其光学透过性能与美国采用Zn和H2Se气体为原料制备出的CVD ZnSe多晶非常接近.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘伟		86	734	14.0	23.0
2	王向阳		3	22	2.0	3.0
3	张力强		4	24	2.0	4.0
4	肖红涛		4	24	2.0	4.0
5	周育先		1	10	1.0	1.0
6	方珍意		4	12	2.0	3.0
7	杨曜源		2	11	1.0	2.0