UC表层的X射线光电子能谱研究

• 作者: 伏晓国 刘柯钊 汪小琳 赖新春 赵正平 钟永强
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 化学
• 关键词: UC 表层 XPS
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 359-362
• 页数: 4页
• 分类号: O614.6
• 字数: 2760字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.03.006

摘要

采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了烧结UC(包括钚的碳化物)样品的表面层结构.分析结果表明,经大气氧化的UC表层由表及里大致组成为:少量UO2+x→UO2与UC的混合物及少量自由碳→UC基体.UC的U4f7/2峰和Cls峰结合能分别为378.2 eV和282 eV.定量分析表明,UC清洁表面的C/U原子比约为1:1,这与UC的化学组成一致,但此时仍能探测到少量固溶氧存在.初步探讨了UC在大气环境中的氧化机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪小琳		82	376	11.0	13.0
2	刘柯钊		36	150	8.0	9.0
3	伏晓国		13	70	6.0	7.0
4	赵正平		8	46	5.0	6.0
5	钟永强		7	12	2.0	3.0
6	赖新春		21	41	3.0	5.0