稀土金属Ce抛光CVD金刚石膜的研究

• 作者: 孙玉静 王翼虹 田莳
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 化学
• 关键词: 稀土 Ce 抛光 CVD金刚石膜
• 年，卷（期）: 2005,（z2）
• 页码范围: 826-829
• 页数: 4页
• 分类号: O613
• 字数: 2112字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.z2.058

摘要

研究了一种快速有效地抛光CVD金刚石厚膜的技术.该技术是利用化学活性很强的稀土金属铈(Ce)与金刚石(碳)的固相化学反应,在一定的工艺条件下对金刚石膜进行的快速有效的抛光.讨论了金刚石膜抛光效果的影响因素及初步探讨了固态稀土Ce抛光金刚石膜的抛光机理.此外,还对抛光前后的金刚石膜以及反应产物进行了Raman光谱和X射线衍射谱(XRD)分析,从而初步得到了该方法抛光金刚石的抛光机理.研究表明:抛光速率和质量与抛光温度、时间和加载的压力有关;在680℃抛光2h就已出现抛光效果;经过700℃,2h,加载为1N抛光条件的处理后表面粗糙度(Ra)由原来的5.9762μm降低到2.0247μm;在750℃时获得了较高的抛光率,约35μm/h.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田莳		28	415	11.0	20.0
2	孙玉静		12	57	4.0	7.0
3	王翼虹		1	1	1.0	1.0