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摘要:
采用磁控溅射方法在硅和石英衬底上制备了纯ZnO和Mg0.04Zn0.96O薄膜.用XRD和AFM表征薄膜的晶化行为和显微结构,用透射谱和光致发光谱分析薄膜的光学性质.分析结果显示:两种薄膜均为六角纤锌矿结构,且沿c轴取向,薄膜表面光滑致密,晶粒分布均匀;薄膜在可见光范围内具有较高的透过率,Mg掺杂后透射谱吸收边向高能侧移动,相应的薄膜的带隙宽度从3.28 eV升至3.36 eV;用包络法计算出薄膜的光学常数表明,Mg掺杂没有明显改变薄膜的折射率,但使消光系数明显增大;薄膜的光致发光谱分析也发现,掺入Mg使带边发射峰蓝移.
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文献信息
篇名 Mg掺杂ZnO薄膜的结构和光学性质
来源期刊 湖北大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 ZnO薄膜 Mg掺杂 光学常数 带隙
年,卷(期) 2006,(4) 所属期刊栏目 物理学与电子技术
研究方向 页码范围 371-374
页数 4页 分类号 TN304
字数 2881字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-2375.2006.04.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 章天金 湖北大学材料科学与工程学院 82 321 11.0 14.0
2 张柏顺 湖北大学材料科学与工程学院 24 152 7.0 11.0
3 黄卫华 湖北大学材料科学与工程学院 4 17 3.0 4.0
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湖北大学学报(自然科学版)
双月刊
1000-2375
42-1212/N
大16开
武汉市武昌区友谊大道368号
38-45
1975
chi
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