ZnO薄膜的制备及其Al掺杂工艺的初步探讨

• 作者: 何翔 潘红梅 黄兴奎
• 来源期刊: 常州工学院学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 Al掺杂 中频等离子体化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2505字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-0436.2006.06.009

摘要

采用MF-PECVD法制备ZnO和高透射率的ZAO薄膜,分析了影响ZnO和ZAO薄膜质量的因素.研究了透射率与衬底温度、沉积时间、锌源浓度以及Al杂质含量之间的关系,讨论了工艺参数对薄膜透射率、颜色、均匀度、附着力、成膜速率及其晶型的影响,给出了制备ZnO和ZAO薄膜的优化条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何翔	中南民族大学电信学院	62	386	11.0	15.0
2	潘红梅	中南民族大学电信学院	3	21	2.0	3.0
3	黄兴奎	中南民族大学电信学院	4	19	2.0	4.0