纳米压印技术的工艺和图形精度研究

• 作者: 司卫华 董晓文 顾文琪
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米压印 压印图形 图形精度 模版
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 441-444
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 3644字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2006.04.026

摘要

纳米压印技术通过压印实现了纳米结构的图形转移,具有分辨率高、效率高、成本低的优点.通过对纳米压印过程中影响图形精度的一些因素进行分析,提出了相应的解决方法.结合研制的NIL-01型压印机进行工艺实验,给出纳米压印工艺实验的结果,并对结果进行了分析.试验表明:考虑到影响压印图形精度的各种因素,采用镀有Cr的SiO2模版和NIL-01型压印机,用热压印技术可以压印出具有100 nm特征尺寸的PMMA图形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾文琪	中国科学院电工研究所	53	189	8.0	11.0
2	董晓文	中国科学院电工研究所	10	46	4.0	6.0
6	司卫华	中国科学院电工研究所	9	46	4.0	6.0