Intersil:我们能用0.25μm的CMOS工艺做模拟产品

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辛璋

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篇名	Intersil:我们能用0.25μm的CMOS工艺做模拟产品
来源期刊	中国集成电路	学科
关键词
年，卷（期）	2006,（4）	所属期刊栏目	企业与产品
研究方向		页码范围	78-79
页数	2页	分类号
字数	2430字	语种	中文
DOI	10.3969/j.issn.1681-5289.2006.04.022