ZnO:Al(ZAO)透明导电薄膜国内的研究现状

• 作者: 于今 韩鑫
• 来源期刊: 江苏冶金
• 学科: 工学
• 关键词: ZAO薄膜 光电特性 透明导电薄膜 射频磁控溅射 ZnO:Al
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 4-8
• 页数: 5页
• 分类号: TN3
• 字数: 5068字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-6068.2006.05.002

摘要

综述了以氧化锌铝陶瓷靶为靶材制备透明导电ZAO薄膜的制备技术,系统地研究了各工艺参数,如氩气压强、射频功率、衬底基片温度、退火条件和氧流量等对其结构和光电特性的影响.在纯氩气中且衬底温度为300℃时制备的ZAO薄膜经热处理后电阻率可降至8.7×10-4Ω·cm,可见光透过率在85%以上.( )射线衍射谱表明,ZAO晶粒具有六角纤锌矿结构且呈c轴择优取向,晶粒垂直于衬底方向柱状生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩鑫	东南大学材料科学与工程学院	2	61	2.0	2.0
2	于今	东南大学材料科学与工程学院	1	15	1.0	1.0