基于磁控溅射技术的ZAO透明导电薄膜及靶材的研究

• 作者: 任鸣放 王华 肖华
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 ZAO透明导电薄膜 溅射靶材 光电特性
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 158-164
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 7378字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2006.02.012

摘要

阐述用磁控溅射技术制备综合性能优良的ZAO透明导电薄膜及其靶材的发展现状和趋势.介绍了透明导电薄膜的基本性能及其存在的问题,进而重点阐述了ZAO薄膜的组织结构、导电机制和透光特性.由于其优良的光电特性(用掺杂Al2O3质量分数达3 %的溅射靶材可制备电阻率达4.7×10-4 Ω·cm、透射率超过90 %的ZAO薄膜)而具有广泛的应用前景.并针对靶材的制备和利用磁控溅射技术制备ZAO透明导电薄膜过程中存在的问题及发展方向进行了分析讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王华	桂林电子工业学院信息材料科学与工程系	98	463	13.0	17.0
2	肖华	桂林电子工业学院通信与信息工程系	1	19	1.0	1.0
3	任鸣放	桂林电子工业学院信息材料科学与工程系	10	74	4.0	8.0