高导电性ZAO陶瓷靶材及薄膜的制备

• 作者: 朱德贵 王良辉 龙涛
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 陶瓷靶材 ZAO透明导电薄膜 热等静压 直流磁控溅射
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: HIC技术
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: TM24
• 字数: 2506字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2004.02.011

摘要

用热等静压法烧结制备了高导电性ZAO(铝掺杂氧化锌)陶瓷靶材,并用直流磁控溅射法制备出ZAO透明导电薄膜.靶材的致密度达98.7%,电阻率为2.2×10-3Ω·cm;制得薄膜的最低电阻率为9.3×10-4Ω·cm,可见光平均透射率大于85%.浅析了靶材的组织结构及靶材的电学、力学性能和薄膜制备的主要实验参数对其光、电性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱德贵	西南交通大学材料科学与工程学院	54	305	10.0	15.0
2	龙涛	西南交通大学材料科学与工程学院	3	34	1.0	3.0
3	王良辉	西南交通大学材料科学与工程学院	14	77	4.0	8.0