常压烧结法制备ZAO靶材及其性质研究

• 作者: 付金彪 刘海龙 吴波 吴育锋 周泽友 熊远鹏 王敏 赵春凤 黄超然
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 透明导电氧化物 常压烧结法 射频磁控溅射 显微组织 光电性质
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 708-713
• 页数: 6页
• 分类号: TN302
• 字数: 3373字
• 语种: 中文

摘要

铝掺杂氧化锌(ZAO)透明导电膜兼具电阻率低和透光性好的特点,在光学与光电子领域具有广阔的应用前景.本文以微米级的高纯超细ZnO和Al2O3粉体为原料,通过控制适当的素坯成型压力,烧结前增加冷等静压环节,优化烧结工艺,制备出了高致密度和低电阻率的ZAO靶材.在16 MPa的成型压力,120 MPa冷等静压,1350℃×1h的烧结工艺下,制备出了高致密度和低电阻率的ZAO靶材,其致密度达98.0％,电阻率为1.8 × 10-2 Ω·cm,接近于热等静压所制备出的ZAO靶材.利用自制靶材,通过射频磁控溅射法,进一步制备出了ZAO薄膜,透光率达到88.6％,最低电阻率达到2.1×10-3 Ω·cm.