类金刚石薄膜的电子结构及光学性质

• 作者: 李雪勇 杨兵初 聂国政
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 类金刚石薄膜 光学性质 电子结构 俄歇电子能谱
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 989-993
• 页数: 5页
• 分类号: O484.41
• 字数: 3458字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2006.06.010

摘要

以直流磁控溅射制备了类金刚石薄膜,采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的表面形貌,采用俄歇电子能谱(AES)分析薄膜的化学键和电子结构.将参数D定义为俄歇电子能谱(AES)中最大正峰和最低负峰之间的距离,用俄歇电子能谱中的D值求得不同沉积气压条件下制备的薄膜的sp2键的百分含量和sp2键与sp3键比率.采用紫外-可见光透射光谱(UV-Vis)分析了薄膜的光吸收特性和光学带隙.结果表明:沉积气压低于0.8 Pa时,sp2键的百分含量随沉积气压的增大而减小;薄膜的光学性质受光学带隙的直接影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兵初	中南大学物理与科学技术学院	65	347	10.0	13.0
2	聂国政	中南大学物理与科学技术学院	5	34	2.0	5.0
3	李雪勇	中南大学物理与科学技术学院	6	41	3.0	6.0