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迎接挑战的先进光刻技术——《半导体国际》光刻技术研讨会
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摘要：
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美开发出热蘸笔纳朱光刻技术
纳米光刻技术
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光刻技术在金属板片刻蚀上的应用
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期刊影响力
集成电路应用
主办单位：
上海贝岭股份有限公司
出版周期：
月刊
ISSN：
1674-2583
CN：
31-1325/TN
开本：
16开
出版地：
上海宜山路810号
邮发代号：
创刊时间：
1984
语种：
chi
出版文献量（篇）
4823
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15
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