退火处理对DKDP晶体光学均匀性的影响研究

• 作者: 常新安 涂衡 臧和贵 艾琳
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: DKDP晶体 热退火 光学均匀性
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 532-535
• 页数: 4页
• 分类号: O782
• 字数: 1616字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.023

摘要

分别对不同生长速度的DKDP晶体进行了退火处理.结果表明,适当温度的退火处理能有效地提高晶体的光学均匀性,尤其是对快速生长的晶体质量提高更为显著.在实验温度范围内,退火温度越高,质量改善越明显.对退火机理进行了初步讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	常新安	北京工业大学材料科学与工程学院	52	425	11.0	18.0
2	臧和贵	北京工业大学材料科学与工程学院	32	204	8.0	12.0
3	艾琳	北京工业大学材料科学与工程学院	3	14	2.0	3.0
4	涂衡	北京工业大学材料科学与工程学院	4	29	3.0	4.0