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摘要:
在大部分半导体工艺中,温度都是最重要的工艺参数之一,炉温的均匀性和稳定度对工艺都有着至关重要的影响.主要介绍了LPCVD设备中的高精度串级温度控制系统,该系统结构简单,控制效果良好,温度稳定度≤±0.5℃/24h.
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系统设计
基于PID算法的炉窑温度串级控制系统设计
炉窑
PLC
串级控制系统
PID算法
运行调试
温度
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 LPCVD设备的高精度串级温度控制系统
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 LPCVD 串级控制 温度控制
年,卷(期) 2006,(4) 所属期刊栏目 设备制造与研究
研究方向 页码范围 35-38
页数 4页 分类号 TN304.055
字数 2623字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.04.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 罗卫国 中国电子科技集团公司第四十八研究所 4 20 3.0 4.0
2 张勇 中国电子科技集团公司第四十八研究所 40 200 6.0 13.0
3 宋玲 中国电子科技集团公司第四十八研究所 9 35 4.0 5.0
4 廖炼斌 中国电子科技集团公司第四十八研究所 3 15 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
LPCVD
串级控制
温度控制
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
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10002
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